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Eksma 雙波段激光反射鏡-2

簡(jiǎn)要描述:Eksma 雙波段激光反射鏡-2
激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長(zhǎng)下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應(yīng)用。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-22
  • 訪  問  量:997

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 雙波段激光反射鏡-2


介電雙波段鏡可在規(guī)定的波長(zhǎng)(基本和倍頻激光線或基本激光線及其對(duì)準(zhǔn)光束)提供99.5%的反射率。

產(chǎn)品介紹

Ø高反射鏡(99.5%反射率)

Ø設(shè)計(jì)用于45°或0°入射角

Ø由BK7玻璃或UV級(jí)熔融石英制成

Eksma 雙波段激光反射鏡-2

激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長(zhǎng)下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應(yīng)用。

我們的激光鏡由BK7或石英制成,并涂有多層介電鍍膜。獲得的高拋光質(zhì)量對(duì)于低波前畸變,低散射和高損傷閾值也很重要。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

產(chǎn)品型號(hào)

BK7; ø76.2 x 12.7 mm

型號(hào)

材料

D

ET

R, %(S+P)/2

AOI

波長(zhǎng)

應(yīng)用

057-4080

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

390-410+780-820 nm

Ti:Sa 2H+1H

057-4080-i0

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

390-410+780-820 nm

Ti:Sa 2H+1H

057-5103

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

057-5103-i0

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

057-5306

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

057-5306-i0

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

057-6306

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

45°

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

057-6306-i0

BK7

76.2 mm

12.7 mm

99.5%

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

UVFS; ø12.7 x 3 mm

型號(hào)

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波長(zhǎng)

應(yīng)用

 

061-2635

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

266+355 nm

Nd:YAG 4H+3H

 

061-2635-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

266+355 nm

Nd:YAG 4H+3H

 

061-2653

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

266+532 nm

Nd:YAG 4H+2H

 

061-2653-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

266+532 nm

Nd:YAG 4H+2H

 

061-3553

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

355+532 nm

Nd:YAG 3H+2H

 

061-3553-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

355+532 nm

Nd:YAG 3H+2H

 

061-3506

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

355+1064 nm

Nd:YAG 3H+1H

 

061-3506-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

355+1064 nm

Nd:YAG 3H+1H

 

061-4080

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

390-410+780-820 nm

Ti:Sa 2H+1H

 

061-4080-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

390-410+780-820 nm

Ti:Sa 2H+1H

 

061-5103

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

 

061-5103-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

500-530+1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 2H+1H

 

061-5306

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

 

061-5306-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

532+1064 nm

Nd:YAG 2H+1H

 

061-6306

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

45°

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

 

061-6306-i0

UVFS

12.7 mm

3 mm

99.5%

633+1064 nm

HeNe:Nd:YAG 1H

 

 

SUBSTRATE

材料

BK7 *玻璃或UV級(jí)熔融石英

S1表面平整度

λ/10 typical at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度激光質(zhì)量

S2表面質(zhì)量

簡(jiǎn)單拋光

直徑公差

+ 0.00 mm, - 0.12 mm

厚度公差

± 0.25 mm

< 3 minutes

倒角

0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

損壞閾值

BK7雙線鏡-1 J / cm2,8 ns脈沖,典型1064 nm

鍍膜表面平整度

UVFS雙線反射鏡-2 J / cm2,8 ns脈沖,典型1064 nm

入射角

633 nm處的λ/ 10超過直徑的85%

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

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