簡要描述:Eksma 寬帶激光反射鏡-3寬帶介電反射鏡在規(guī)定的波長范圍內(nèi)提供了優(yōu)化的寬帶性能。寬帶激光反射鏡專為使用Ti:Sapphire,染料,二極管和YAG激光器的應用而設計。
詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 寬帶激光反射鏡-3
Eksma 寬帶激光反射鏡-3
寬帶激光反射鏡在設計的寬帶波長范圍內(nèi)提供高反射率。反射鏡專為鈦,藍寶石,染料,二極管和YAG激光應用而設計。
產(chǎn)品介紹
Ø寬帶性能適用于流行的激光波長范圍
Ø高反射率-(s + p)/ 2偏振的Ravg> 99%
Ø由UV級熔融石英或BK7基材制成
Ø設計用于45°或0°入射角
Ø對于超快速應用-720-880 mm的寬帶低GDD激光鏡可在此處找到
寬帶介電反射鏡在規(guī)定的波長范圍內(nèi)提供了優(yōu)化的寬帶性能。寬帶激光反射鏡專為使用Ti:Sapphire,染料,二極管和YAG激光器的應用而設計。
獲得的高拋光質(zhì)量對于低波前畸變,低散射和高損傷閾值至關(guān)重要。
產(chǎn)品型號
UVFS;ø25,4x6 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
082-2225 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 220-250 nm | Spectroscopy |
082-2225-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 220-250 nm | Spectroscopy |
082-2638 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 260-380 nm | Spectroscopy |
082-2638-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 260-380 nm | Spectroscopy |
082-3644 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
082-3644-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
082-4254 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 420-540 nm | Dye |
082-4254-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 420-540 nm | Dye |
082-5265 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 520-650 nm | Dye |
082-5265-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 520-650 nm | Dye |
082-6085 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 600-850 nm | Diode |
082-6085-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 600-850 nm | Diode |
082-7395 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 730-950 nm | Ti:Sa |
082-7395-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 730-950 nm | Ti:Sa |
082-8011 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
082-8011-i0 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
UVFS; ø50.8 x 8 mm 型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
085-2225 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 220-250 nm | Spectroscopy |
085-2225-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 220-250 nm | Spectroscopy |
085-2638 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 260-380 nm | Spectroscopy |
085-2638-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 260-380 nm | Spectroscopy |
085-3644 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
085-3644-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
085-4254 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 420-540 nm | Dye |
085-4254-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 420-540 nm | Dye |
085-5265 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 520-650 nm | Dye |
085-5265-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 520-650 nm | Dye |
085-6085 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 600-850 nm | Diode |
085-6085-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 600-850 nm | Diode |
085-7395 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 730-950 nm | Ti:Sa |
085-7395-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 730-950 nm | Ti:Sa |
085-8011 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
085-8011-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
基材
材料 | BK7 *玻璃或UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
損壞閾值 | 1 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm |
鍍膜表面平整度 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85% |
入射角 | 0°或45° |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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